Мета за распршивање тантала високе чистоће

Мета за распршивање тантала високе чистоће

Материјал: чисти тантал и легура
Хемијски састав: Та (99,95% мин). Нб. В. Фе
Назив производа: Чиста тантална мета тантална мета за прскање по повољној цени
Материјал: чисти тантал и легура
Pošalji upit
Opis
Tehničke karakteristike
Циљеви за распршивање тантала високе чистоће могу се прилагодити вашим захтевима

 

Спецификације
Материјал: Р05200
Чистоћа: већа или једнака 99,95%, већа или једнака 99,99%
Величина: Прилагођено
Стандард: АСТМ Б708-2012
Примена: Користи се за распршивање оптичких влакана, полупроводничких плоча и интегрисаних кола. Користи се за стакло, керамику, ЛЦД премазе. Користи се за облагање катодним распршивањем, високовакумску адсорпцију активних материјала итд.

 

Спецификације танталних мета

 

предмет

Добра цена чисте та циљне танталне мете за прскање

Материјал

чисти тантал и легура

Густина

16,6Г/цм3

Површина

углачан, светао, ваљан

Облик

округли диск, мали диск, велики диск

МОК

1пиеце

Апликација

Индустријски, електронски, медицински

 

Наша услуга

 

1. Професионални произвођач--15 година искуства

2. Строга контрола квалитета - СГС инспекција

3. Велики капацитет снабдевања--3000МТ/месечно

4. Брза испорука - у року од 15 дана

 

Посета купаца и окружење компаније

 

High Purity ta Sputtering Target  supplier

High Purity Tantalum Sputtering Target  supplier

Зхенан је компанија са 200+ запослених и фабричком површином од 30,000+ квадратних метара. Имамо 30+ година искуства у производњи и производњи метала. Добродошли да нас контактирате за куповину производа.

Popularne oznake: Циљ за распршивање тантала високе чистоће, произвођачи, добављачи, фабрика у Кини за распршивање тантала високе чистоће